大日本印刷、1.4ナノ先端半導体を消費電力10分の1で生産する技術を開発キヤノンが27年実用化

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大日本印刷、1.4ナノ先端半導体を消費電力10分の1で生産する技術を開発　キヤノンが27年実用化

1.4ナノ半導体、電力10分の1で製造　DNPとキヤノンが27年実用化

大日本印刷（DNP）は先端半導体を消費電力10分の1で生産する技術を開発した。キヤノンが手がける新手法の製造装置向けに、次世代の1.4ナノ（ナノは10億分の1）メートル品に対応する中核部材を2027年に量産する。人工知能（AI）半導体の製造コストが大幅に下がる可能性がある。

現状、最先端の半導体を量産するには世界でオランダのASMLホールディングだけが生産する極端紫外線（EUV）露光装置が必要だ…

1.4ナノ半導体、電力10分の1で製造　DNPとキヤノンが27年実用化https://t.co/68BTw8vTRK

— 日本経済新聞電子版（日経電子版） (@nikkei) December 8, 2025

大日本印刷－続伸　1.4ナノ半導体、電力10分の1で製造　キヤノンと27年実用化＝日経

大日本印刷<7912>が続伸。日本経済新聞電子版は9日5時に、先端半導体を消費電力10分の1で生産する技術を開発したと報じた。

記事によれば、キヤノン<7751>が手がける新手法の製造装置向けに、次世代の1.4ナノメートル品に対応する中核部材を2027年に量産するという。人工知能（AI）半導体の製造コストが大幅に下がる可能性があるとしている。
https://finance.yahoo.co.jp/news/detail/000d09ebc230a7ab70cc48bb76098c51f125f598

大日本印刷
https://www.dnp.co.jp/news/detail/20177717_1587.html?from=rss

管理人

ネットの反応

名無し

どういう技術か ― “NIL” を使った微細加工
・両社が使うのは「ナノインプリントリソグラフィ (NIL)」という方式。これは、光で回路パターンを焼き付ける従来の「露光」技術とは異なり、「型 (スタンパー)」をウエハー（基板）に“押し付ける”ことで回路パターンを写す方法。
・この方式のメリットとして、従来の露光装置（特に最先端の極端紫外線 EUV 装置など）に比べ、消費電力が大きく抑えられる — 今回は「約 1/10」に削減可能、との報告。
・また、現像工程が不要 (または簡略) となるなど、製造プロセス全体のコスト・環境負荷の低減にもつながる。
　
📅 なぜ「2027年実用化」のニュースが重要か
・世界では TSMC をはじめとする大手が 1.4nm プロセス開発を進めており、量産化のタイムラインも「2028年」などが見込まれていた。
・それを前倒しに、かつ消費電力を大きく抑えた形で「実用化」を目指す — つまり、単なる技術デモではなく、産業レベルでの競争力を視野に入れた勝負である点が注目される。
・まり、もしこの計画が成功すれば、世界の半導体製造技術で「コスト効率 × 省エネ × 微細化」を同時に実現する新たな選択肢として、日本勢が再び存在感を持つ可能性がある。

名無し

スゲーーーー！

名無し

量産出来るならすごーい…さすがぁ…知らなかったぁ…

名無し

国内コラボ✨

名無し

本当だとしたら一気に技術革新したことになるだろうけど本当なのかな～って最近日本の新技術情報を疑う
できた！ってニュースはあるけど実用化した！ってあまり聞かない
ただ日本の技術を信じたいとこもあるから頑張って実現して
あとは大量生産できて低コストと動作に低電力低発熱化できたら最高

名無し

そうナノかっ❗️（よくわかってない

名無し

一気に世界の先頭に立ったな！

名無し

競争のフィールドど真ん中で、国産勢が堂々と戦っているのは本当に誇らしいことです。
ただし、ここは完全なレッドオーシャン。非常に厳しい競争でしょうが、ぜひ勝ち抜いてほしいものです。
さらにそのうえで、宝物のような技術の流出だけは絶対に避けてほしい。このあたり、高市政権はかなりセンシティブに動いているようで、大いに期待しています。

名無し

ガッチガチに情報保護してもろて

名無し

Canonは中国撤退して良かったよ
また技術が盗まれるところだった

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